Méthode du motif
Norme ISO 12085
Définitions pratiques
Parcourons quelques définitions indispensables à la compréhension de cette méthode :
 | Saillie locale du profil |
| Creux local du profil |
| Motif |
| Motif de rugosité |
| Ligne enveloppe supérieure du profil primaire |
| Motif d'ondulation |
Partie du profil comprise entre 2 minima adjacents du profil.
Partie du profil comprise entre 2 maxima adjacents du profil.
Portion du profil primaire comprise entre les points les plus hauts de deux saillies locales du profil, consécutives ou non.
Un motif est caractérisé par :
| sa longueur, ARi ou AWi, mesurée parallèlement à la direction générale du profil. |
| ses deux profondeurs, Hj et H j + 1 ou Hwj et Hwj + 1, mesurées perpendiculairement à la direction générale du profil. |
| sa caractéristique, T, égale à la plus petite des deux profondeurs. |
T = min(Hj , Hj+1) pour le motif de rugosité
T = min(Hwj, Hwj+1) pour le motif d’ondulation.
Motif calculé en utilisant l'opérateur théorique avec la valeur A (voir partie : Principe de la méthode).
Ceci pour que le motif de rugosité ait une longueur ARi inférieure ou égale à A.
Ligne enveloppe supérieure du profil primaire (profil d'ondulation) :
Segments de droite joignant les points les plus hauts des saillies du profil primaire, après discrimination conventionnelle de certaines saillies.
Motif déterminé sur la ligne enveloppe supérieure du profil primaire en utilisant l'opérateur théorique avec la valeur B (long
